Herausforderung: Schutz von Elektronik und Gewebe
Damit implantierte Elektronik ihre Funktion über einen langen Zeitraum zuverlässig erfüllen kann, muss sie vor der korrosiven Wirkung des Körpermediums geschützt werden. Umgekehrt darf das umgebende Gewebe nicht durch freigesetzte Stoffe aus der Elektronik geschädigt werden oder mit der Ausbildung von fibrösem Gewebe reagieren. Derzeit werden Metall- oder Glasgehäuse zur Verkapselung eingesetzt, die jedoch im Hinblick auf Miniaturisierungspotenzial und Kostensenkung begrenzt sind.
Zur Demonstration der Machbarkeit hat das Fraunhofer IGB Barriereschichten auf einer ringförmigen kupfer- und nickelhaltigen elektronischen Implantatkomponente erzeugt, die eine gute Barriere gegenüber Metallionen und Wasser darstellen. Die Komponenten waren auch nach über sechs Monaten Einlagerung in einem physiologischen Medium noch funktionell und zeigten keine Freisetzung von Kupfer- oder Nickelionen.
Exzellente Barriere und Stabilität
Der neue Lösungsansatz besteht in Multilagen aus anorganischen und organischen Schichten, die zusammen mechanisch stabilere und bessere Barriereschichten erzeugen. Die notwendige Biokompatibilität wurde bei der Materialauswahl mitberücksichtigt. Die Barriereschichten wurden mittels PECVD– und CVD-Verfahren erzeugt und bestehen aus SiOx-, silikonartigen und Parylen-C-Schichten mit einer Gesamtdicke von etwa 20 Mikrometern. Entscheidend für die gute Barrierewirkung ist der haftfeste Verbund der Schichten untereinander sowie die formschlüssige Beschichtung. Die entwickelten Beschichtungen können auf verschiedene Geometrien übertragen werden und so neue miniaturisierte Implantate ermöglichen.